鋁合金鑄造生產(chǎn)后，電壓進(jìn)入到較為有序而緩慢的上升階段。表明無(wú)孔層在不斷的被分解掉發(fā)生多孔層的同時(shí)，新的無(wú)孔層又在生長(zhǎng)，也就是說氧化膜中無(wú)孔層的轉(zhuǎn)變成效率與分解掉速率基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)了平衡，故無(wú)孔層的薄厚不容易再上升，電壓變化也較小。

 但是，這時(shí)在孔的底部氧化膜的轉(zhuǎn)變成與分解掉并不能停止，他們?nèi)栽诓粩嚅_展著，結(jié)果使孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動(dòng)。伴隨著鋁合金鑄造生產(chǎn)的氧化用時(shí)提升，孔穴加重發(fā)生孔隙度，擁有孔隙度的膜層逐漸增厚。當(dāng)膜轉(zhuǎn)變成速率和分解掉速率實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，即使再提升氧化用時(shí)，氧化膜的薄厚也不會(huì)再上升，這時(shí)應(yīng)停止陽(yáng)極氧化階段。

 接通電首要的的幾秒到幾十秒用時(shí)內(nèi)，鋁表面直接轉(zhuǎn)變成一層一層緊密的、擁有高絕緣性能的氧化膜，薄厚約0.01～0.1μm，為一層一層不斷的、無(wú)孔的薄膜層，將之稱為無(wú)孔層或阻擋層，此膜的發(fā)生發(fā)生了電流的經(jīng)過和膜層的再次變厚。

 鋁合金鑄造生產(chǎn)中的氧化工藝筒易，液體有序，操作過程便利，允許雜物成分范圍較寬，電量消耗少，降低成本，且?guī)缀蹩梢暂^為適用鋁及各種鋁合金的加工，因此在國(guó)內(nèi)已得到了廣泛的應(yīng)用

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